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作者

王洪

作者单位

泰山医学院放射学系

刊名

中华放射学杂志

年份

2001

卷号

第35卷

期号

第11期

页码

865-866

ISSN

1005-1201

关键词

磁共振成像 工艺学,放射学 质量控制

分类号

R445.2

摘要

目的排除周围环境给磁共振成像造成的交流干扰伪影. 方法通过安装永磁型低磁场强度MR仪 10台,对出现的交流干扰图像进行了分析,并分别对伪影最严重的1台和无伪影的2台进行了环境测量对比,通过移开供电线、加隔离变压器、清除金属管道等,总结出具体排除干扰方法. 结果交流干扰造成的磁场强度为 2～4 mGs,超出允许值1 mGs, 形成连套环状伪影.经处理, 使交流干扰场强降为1 mGs以下, 图像干扰消逝.结论安装MRI设备时,必须将干扰源移至10 m以外.

学科

【教育部学科】医学

文献类型

期刊

浏览量

30